Effect of processing parameters on the deposition rate of Si 3N4/Si2N2O by chemical vapor infiltration and the in situ thermal decomposition of Na2SiF 6
- Pech-Canul, M.I.
- De La Peña, J.L.
- Leal-Cruz, A.L.
ISSN: 0947-8396, 1432-0630
Any de publicació: 2007
Volum: 89
Número: 3
Pàgines: 729-735
Tipus: Article
Els documents de l'Observatori s'actualitzen diàriament. Aquesta data fa referència a l'actualització de la informació relacionada amb l'estructura de l'Observatori (persones, grups d'investigació, unitats organitzatives, projectes, etc.).