Effect of processing parameters on the deposition rate of Si 3N4/Si2N2O by chemical vapor infiltration and the in situ thermal decomposition of Na2SiF 6
- Pech-Canul, M.I.
- De La Peña, J.L.
- Leal-Cruz, A.L.
ISSN: 0947-8396, 1432-0630
Ano de publicación: 2007
Volume: 89
Número: 3
Páxinas: 729-735
Tipo: Artigo
Os documentos do portal actualízanse diariamente. Esta data fai referencia á actualización da información relacionada coa estructura do portal (persoas, grupos de investigación, unidades organizativas, proxectos…).