Effect of processing parameters on the deposition rate of Si 3N4/Si2N2O by chemical vapor infiltration and the in situ thermal decomposition of Na2SiF 6
- Pech-Canul, M.I.
- De La Peña, J.L.
- Leal-Cruz, A.L.
ISSN: 0947-8396, 1432-0630
Argitalpen urtea: 2007
Alea: 89
Zenbakia: 3
Orrialdeak: 729-735
Mota: Artikulua
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