Effect of processing parameters on the deposition rate of Si 3N4/Si2N2O by chemical vapor infiltration and the in situ thermal decomposition of Na2SiF 6

  1. Pech-Canul, M.I.
  2. De La Peña, J.L.
  3. Leal-Cruz, A.L.
Revista:
Applied Physics A: Materials Science and Processing

ISSN: 0947-8396,  1432-0630

Año de publicación: 2007

Volumen: 89

Número: 3

Páginas: 729-735

Tipo: Artículo

DOI: 10.1007/S00339-007-4153-Z GOOGLE SCHOLAR
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